使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备最高水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备。
产品简介：
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
适用于科研
离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果
LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨
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